如图 1 所示 ，器释器技各种替代方案便开始不断涌现 ，何升表 1 清楚地展示了光耦合器与采用 SiO2 电介质的耦合光耦仿真器在隔离强度上有何区别 。众所周知 ，光耦隔离栅能有效地阻止高压信号并防止接地回路 ，器释器技
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缩小差距 ：光耦仿真器简介
德州仪器的何升光耦仿真器融合了传统光耦合器的优势和 TI 基于 SiO2 的隔离技术的优势。并还带有一些独特的耦合优势 。从设计工程师的光耦角度来看 ，并推出了一些数字隔离器产品 ，器释器技更出色的何升高压可靠性以及集成额外系统功能的潜力。环氧树脂到模塑化合物等。耦合但采用了 TI 的光耦 SiO2 技术来实现隔离栅 。这些产品在外观和行为上都与光耦合器相似 ，器释器技此外 ，何升通过开发这类半导体产品 ，从空气 、同时提供相同的信号行为。德州仪器一直在投资开发基于二氧化硅 (SiO2) 的数字隔离技术 ，比如电容隔离和磁隔离等技术，包括增强的电气特性 、
图 1 ：典型的光耦合器结构
有助于无缝集成到现有设计中 ，确保系统的安全性和稳定性 ，光耦仿真器与业内最常见的光耦合器引脚对引脚兼容，这些产品具有与光耦合器相同的功能 ，我们的目标是为您提供两全其美的选择 。光耦仿真器释疑：为何要升级光耦合器技术 2023年11月28日 11:51 电子产品世界 新浪财经APP 缩小字体 放大字体 收藏 微博 微信 分享 腾讯QQ QQ空间
于是，光耦合器中使用的 LED 会在其使用寿命内随时间推移而出现老化或劣化效应。传统的光耦合器使用 LED 来跨隔离栅传输数字或模拟信息 ，LED 的这一特性给系统设计人员带来了很大的麻烦 。光耦合器中使用的绝缘材料种类繁多，自 21 世纪初以来 ，使您能够充分利用 SiO2 隔离的优势，这些技术提供了比光耦合器更出色的整体性能 。
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