ASML韩国研发中心2027年引入 High
各自出资1万亿韩元(约54亿元人民币)在韩国设立联合研发中心。韩国此中心将为双方工程师提供EUV设备进行先进半导体研究合作。中心
ASML韩国研发中心2027年引入 High-NA EUV光刻机 2024年02月07日 11:46 爱活网 新浪财经APP 缩小字体 放大字体 收藏 微博 微信 分享 腾讯QQ QQ空间
三星电子和ASML去年签署协议,年引
韩国![](https://n.sinaimg.cn/spider20240207/240/w666h374/20240207/625c-294c21ea6c79a626bba23eb0c15bf8b5.png)
ASML韩国公司总裁Lee Woo kyung近期透露,中心ASML与三星电子的年引合资研发中心预计将最迟在2027年引入 High-NA 光刻机 。
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