ASML CEO：中国厂商不可能造出7nm及以下先进光刻机

ASML CEO：中国厂商不可能造出7nm及以下先进光刻机 2024年08月21日 07:16 快科技 新浪财经APP 缩小字体 放大字体 收藏 微博 微信 分享 腾讯QQ QQ空间

快科技8月21日消息，中造出据国外媒体报道称，国厂光刻ASML 首席执行官克里斯托夫-福凯接受采访时表示，及下机世界需要中国生产的先进"传统芯片"，它们将帮助填补欧洲的中造出供需缺口。

“阻止别人生产自己需要的国厂光刻东西毫无意义。对于俄罗斯天然气，及下机人们已经明白必须找到替代品，先进但对于芯片还没有。中造出”这位CEO说道。国厂光刻

ASML的及下机CEO认为，在半导体技术方面，先进中国仍比美国落后十年，中造出但中国还有很长的国厂光刻路要走，但鉴于其对旧工艺的及下机熟练程度，这确实使其略胜一筹。

据国际半导体产业协会（SEMI）估计，中国芯片制造商的产能将在2025年提高14%，是世界其他国家的两倍多，到2025年将达到每月1010万片，约占全球总产量的三分之一。

当被问及中国是否能重新制造出EUV光刻设备时，ASML表示，鉴于开发过程的复杂性，现在还远远不可能。