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ASML CEO:中国厂商不可能造出7nm及以下先进光刻机
时间:2024-09-20 19:53:16出处:探索阅读(143)
ASML CEO:中国厂商不可能造出7nm及以下先进光刻机 2024年08月21日 07:16 快科技 新浪财经APP 缩小字体 放大字体 收藏 微博 微信 分享 腾讯QQ QQ空间
快科技8月21日消息,中造出据国外媒体报道称,国厂光刻ASML 首席执行官克里斯托夫-福凯接受采访时表示,及下机世界需要中国生产的先进"传统芯片",它们将帮助填补欧洲的中造出供需缺口。
“阻止别人生产自己需要的国厂光刻东西毫无意义。对于俄罗斯天然气,及下机人们已经明白必须找到替代品,先进但对于芯片还没有。中造出”这位CEO说道。国厂光刻
ASML的及下机CEO认为,在半导体技术方面,先进中国仍比美国落后十年,中造出但中国还有很长的国厂光刻路要走,但鉴于其对旧工艺的及下机熟练程度,这确实使其略胜一筹。
据国际半导体产业协会(SEMI)估计,中国芯片制造商的产能将在2025年提高14%,是世界其他国家的两倍多,到2025年将达到每月1010万片,约占全球总产量的三分之一。
当被问及中国是否能重新制造出EUV光刻设备时,ASML表示,鉴于开发过程的复杂性,现在还远远不可能。
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